El proceso de limpieza en los equipos de limpieza láser se basa en los pulsos de luz generados por el láser, basados en una reacción fotofísica causada por la interacción entre el haz de alta intensidad, la luz láser de pulso corto y la capa contaminada.
¿Cómo elimina la pintura el equipo de limpieza láser? Para comprender cómo la limpieza con láser elimina la pintura, es necesario comprender el mecanismo de limpieza de los equipos de limpieza con láser.
La pintura aplicada a la superficie del metal equivale a una capa especial de plasma, que protege el metal de la corrosión y la oxidación. Y el plasma se genera sólo con densidades de energía superiores a un umbral, que depende de la capa de contaminación o de la capa oxidada que se elimine. Este efecto de umbral es importante para una limpieza eficaz y al mismo tiempo mantener seguro el material del sustrato. También existe un segundo umbral para la aparición de plasma. Si la densidad de energía supera este umbral, el material del sustrato se destruye. Para una limpieza eficaz y segura del material del sustrato, los parámetros del láser deben ajustarse a la situación de modo que la densidad de energía de los pulsos de luz se encuentre estrictamente entre los dos umbrales.
Cada pulso láser elimina un cierto espesor de capa de contaminación. Si la capa de contaminación es más gruesa, se necesitará más de un pulso para la limpieza. La cantidad de pulsos necesarios para limpiar la superficie depende del grado de contaminación de la superficie. Una consecuencia importante de los dos umbrales es el autocontrol de la limpieza. Los pulsos de luz con una densidad de energía superior al primer umbral seguirán rechazando los contaminantes hasta que alcancen el material del sustrato. Sin embargo, debido a que su densidad de energía está por debajo del umbral de daño del material del sustrato, el sustrato no resultará dañado.
Con base en lo anterior, el uso de equipos de limpieza por láser para limpiar pintura sobre superficies metálicas, el umbral es para controlar cuándo el umbral es adecuado para la limpieza por láser, cuando el umbral no se puede establecer en el umbral que el equipo de limpieza por láser no puede alcanzar. los requisitos de la limpieza, razón por la cual el equipo de limpieza láser no es una de las razones por las que el omnipotente, sin embargo, con la investigación y el desarrollo del láser, el equipo de limpieza láser cada vez más profundo también es cada vez más poderoso, en ese momento. Puede llegar al punto en que todo se pueda lavar.
